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工藝原理：加氫脫氧裝置以普氮為原料，經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥，再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃，獲得高純度氮氣。
除氧原理為：H2+O2→H2O
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工藝原理：
加氫脫氧裝置以普氮為原料，經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥，再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃，獲得高純度氮氣。
除氧原理為：H2+O2→H2O
加氫氮氣純化設(shè)備技術(shù)指標：
處理氣量：10-500Nm3／h
原料氮氣純度：≥99．5％
產(chǎn)品氮氣純度：99．9995％ O2≤5ppm H2：微量
露點：≤-60℃
產(chǎn)品氮氣出口壓力：0．1~0．6Mpa
工藝流程圖：
加氫氮氣純化設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)表：
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